მესამე თაობის ნახევარგამტარის ამომავალი ვარსკვლავი: გალიუმის ნიტრიდი, მომავალში ზრდის რამდენიმე ახალი წერტილი

სილიციუმის კარბიდის მოწყობილობებთან შედარებით, გალიუმის ნიტრიდის სიმძლავრის მოწყობილობებს ექნებათ მეტი უპირატესობა ისეთ სცენარებში, სადაც ერთდროულად საჭიროა ეფექტურობა, სიხშირე, მოცულობა და სხვა ყოვლისმომცველი ასპექტები, მაგალითად, გალიუმის ნიტრიდზე დაფუძნებული მოწყობილობები წარმატებით იქნა გამოყენებული სწრაფი დატენვის სფეროში. ფართომასშტაბიანი.ქვედა დინების ახალი აპლიკაციების გავრცელებით და გალიუმის ნიტრიდის სუბსტრატის მომზადების ტექნოლოგიის მუდმივი გარღვევით, GaN მოწყობილობები, სავარაუდოდ, გაგრძელდება მოცულობის ზრდაში და გახდება ერთ-ერთი მთავარი ტექნოლოგია ხარჯების შემცირებისა და ეფექტურობისთვის, მდგრადი მწვანე განვითარებისთვის.

ამჟამად ნახევარგამტარული მასალების მესამე თაობა გახდა სტრატეგიული განვითარებადი ინდუსტრიების მნიშვნელოვანი ნაწილი და ასევე ხდება სტრატეგიული ბრძანების პუნქტი ახალი თაობის საინფორმაციო ტექნოლოგიების, ენერგიის დაზოგვისა და ემისიების შემცირების და ეროვნული თავდაცვის უსაფრთხოების ტექნოლოგიების ხელში ჩაგდების მიზნით.მათ შორის, გალიუმის ნიტრიდი (GaN) არის მესამე თაობის ერთ-ერთი ყველაზე წარმომადგენლობითი ნახევარგამტარული მასალა, როგორც ფართო ზოლიანი ნახევარგამტარული მასალა 3.4eV ზოლებით.

3 ივლისს ჩინეთმა გააძლიერა გალიუმისა და გერმანიუმთან დაკავშირებული ნივთების ექსპორტი, რაც მნიშვნელოვანი პოლიტიკის კორექტირებაა, რომელიც ეფუძნება გალიუმის, იშვიათი ლითონის, როგორც „ნახევარგამტარების ინდუსტრიის ახალი მარცვლის“ მნიშვნელოვან ატრიბუტს და მის ფართო გამოყენების უპირატესობებს. ნახევარგამტარული მასალები, ახალი ენერგია და სხვა სფეროები.ამ პოლიტიკის ცვლილების გათვალისწინებით, ეს ნაშრომი განიხილავს და გააანალიზებს გალიუმის ნიტრიდს მომზადების ტექნოლოგიისა და გამოწვევების ასპექტებიდან, მომავალში ზრდის ახალ წერტილებსა და კონკურენციის შაბლონიდან.

მოკლე შესავალი:
გალიუმის ნიტრიდი არის ერთგვარი სინთეზური ნახევარგამტარული მასალა, რომელიც წარმოადგენს მესამე თაობის ნახევარგამტარული მასალების ტიპურ წარმომადგენელს.ტრადიციულ სილიკონის მასალებთან შედარებით, გალიუმის ნიტრიდს (GaN) აქვს უპირატესობები დიდი ზოლის, ძლიერი დაშლის ელექტრული ველის, დაბალი წინააღმდეგობის, ელექტრონების მაღალი მობილურობის, მაღალი კონვერტაციის ეფექტურობის, მაღალი თბოგამტარობის და დაბალი დანაკარგების უპირატესობებით.

გალიუმის ნიტრიდი ერთი კრისტალი არის ახალი თაობის ნახევარგამტარული მასალები შესანიშნავი წარმადობით, რომელიც შეიძლება ფართოდ იქნას გამოყენებული კომუნიკაციაში, რადარში, სამომხმარებლო ელექტრონიკაში, საავტომობილო ელექტრონიკაში, ენერგეტიკულ ენერგიაში, სამრეწველო ლაზერულ დამუშავებაში, აპარატურასა და სხვა სფეროებში, ამიტომ მისი განვითარება და მასობრივი წარმოება მსოფლიოს ქვეყნებისა და ინდუსტრიების ყურადღების ცენტრშია.

GaN-ის გამოყენება

1--5G საკომუნიკაციო საბაზო სადგური
უსადენო საკომუნიკაციო ინფრასტრუქტურა არის გალიუმის ნიტრიდის RF მოწყობილობების გამოყენების ძირითადი სფერო, რომელიც შეადგენს 50%.
2--მაღალი კვების წყარო
GaN-ის „ორმაგი სიმაღლის“ ფუნქციას აქვს დიდი შეღწევადობის პოტენციალი მაღალი ხარისხის სამომხმარებლო ელექტრონულ მოწყობილობებში, რომლებსაც შეუძლიათ დააკმაყოფილონ სწრაფი დატენვისა და დამუხტვის დაცვის სცენარების მოთხოვნები.
3--ახალი ენერგეტიკული მანქანა
პრაქტიკული გამოყენების თვალსაზრისით, ამჟამინდელი მესამე თაობის ნახევარგამტარული მოწყობილობები მანქანაზე ძირითადად სილიციუმის კარბიდის მოწყობილობებია, მაგრამ არის შესაფერისი გალიუმის ნიტრიდის მასალები, რომლებსაც შეუძლიათ გაიარონ მანქანის რეგულირების სერთიფიკატი ენერგეტიკული მოწყობილობის მოდულების ან სხვა შესაფერისი შეფუთვის მეთოდებზე. ჯერ კიდევ მიიღება მთელი ქარხნისა და OEM მწარმოებლების მიერ.
4--დატა ცენტრი
GaN დენის ნახევარგამტარები ძირითადად გამოიყენება PSU ელექტრომომარაგების ერთეულებში მონაცემთა ცენტრებში.

შეჯამებით, ახალი აპლიკაციების გავრცელებით და გალიუმის ნიტრიდის სუბსტრატის მომზადების ტექნოლოგიაში უწყვეტი მიღწევებით, მოსალოდნელია, რომ GaN მოწყობილობები გააგრძელებს მოცულობის ზრდას და გახდება ერთ-ერთი მთავარი ტექნოლოგია ხარჯების შემცირებისა და ეფექტურობისთვის და მდგრადი მწვანე განვითარებისთვის.