6 დიუმიანი N-ტიპის ან P-ტიპის სილიკონის ვაფლი CZ Si ვაფლი

Მოკლე აღწერა:

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლი არის ჩვეულებრივი სილიკონის სუბსტრატის მასალა, რომელიც ფართოდ გამოიყენება ინტეგრირებული სქემების წარმოებაში.ეს ვაფლები მუშავდება და იწმინდება სხვადასხვა ტიპის ინტეგრირებული სქემების შესაქმნელად, მათ შორის მიკროპროცესორების, მეხსიერების ჩიპების, სენსორების და სხვა ელექტრონული მოწყობილობების ჩათვლით.6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლის უპირატესობებში შედის მათი დიდი ზედაპირი, კარგი თბოგამტარობა და შედარებით დაბალი ღირებულება.ეს მახასიათებლები 6 დიუმიან სილიკონის ვაფლებს აქცევს ერთ-ერთ იდეალურ არჩევანს ინტეგრირებული მიკროსქემის წარმოებისთვის.

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

ვაფლის ყუთის წარმოდგენა

სილიკონის ვაფლის სპეციფიკაციები:

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლის ზრდა: CZ, MCZ, FZ.

6 სილიკონის ვაფლის ხარისხი: Prime, Test, Dummy და ა.შ

6 ინჩი სილიკონის ვაფლის დიამეტრი: 6 ინჩი/150 მმ.

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლის სისქე: 200 ~ 3000 მმ.

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლის დასრულება: როგორც დაჭრილი, დაფქული, ამოჭრილი, SSP, DSP და ა.შ.

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლის ორიენტაცია: (100) (111) (110) (531) (553) და ა.შ.

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლი გამორთულია: 4 გრადუსამდე.

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლის ტიპი/დოპანტი: P/B, N/Phos, N/As, N/Sb, Intrinsic.

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლის წინააღმდეგობა: CZ/MCZ: 0,001-დან 1000 ომ-სმ-მდე.FZ: 20 კმ-სმ-მდე.

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლი თხელი ფირები: (a)PVD: Al, Cu, Au, Cr, Si, Ni;, Fe, Mo. და ა.შ., საფარის სისქე 20.000A/5%-მდე.

(ბ) LPCVD/PECVD: ოქსიდი, ნიტრიდი, siC და ა.შ., საფარის სისქე 200.000A/3%-მდე.

(გ) სილიკონის ეპიტაქსიალური ვაფლები და ეპიტაქსიალური სერვისები (SOS, GaN, GOI და ა.შ.).

6 დიუმიანი სილიკონის ვაფლის პროცესები: a.DSP, ულტრა თხელი, ულტრა ბრტყელი და ა.შ.

ბ.შემცირება, ზურგის დაფქვა, კუბების დაჭრა და ა.შ.MEMS.

2010 წლიდან შანხაის XKH Material Tech.Co.,Ltd მზადაა მიაწოდოს მომხმარებელს ყოვლისმომცველი 4-დიუმიანი ვაფლის სილიკონის ვაფლის გადაწყვეტილებები, დაწყებული გამართვის დონის ვაფლებიდან, სატესტო ვაფლიდან, პროდუქტის დონის ვაფლებამდე Prime Wafer, ასევე სპეციალური ვაფლებით, Oxide wafers Oxide, ნიტრიდის ვაფლები Si3N4, ალუმინის მოოქროვილი ვაფლები, სპილენძის მოოქროვილი სილიკონის ვაფლები, SOI ვაფლი, MEMS მინა, მორგებული ულტრა სქელი და ულტრა ბრტყელი ვაფლები და ა.შ., ზომები 50 მმ-დან 300 მმ-მდე და ჩვენ შეგვიძლია მივაწოდოთ ნახევარგამტარული ვაფლები ცალმხრივი /ორმხრივი გაპრიალება, გათხელება, კამათელი, MEMS და სხვა დამუშავებისა და პერსონალიზაციის სერვისები.